罗门哈斯电子材料公司推出用于65nm铜阻挡层的研磨化学机械研磨垫

罗门哈斯电子材料公司化学机械研磨（CMP）技术事业部，9月12日宣布推出Vision Pad^TM VP3100研磨垫。VP3100是产业界中第一种兼备硬研磨垫和软研磨垫优点的研磨垫，用于先进的化学机械研磨。使用Vision Pad^TM VP3100研磨垫时，在大批量生产铜晶片时，晶片平坦度优异，而且缺陷率低，从而提高了65nm工艺制程的产量，并且降低设备使用的总成本。