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一种新型氮化硅氢离子敏器件及其特性

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摘要 新型氮化硅氢离子敏器件采用PECVD法淀积SiNxHy膜同时作敏感膜与二次钝化保护膜。改善了器件的密封性能;敏感灵敏度β=56~60mV/pH,比用LPCVD法淀积的Si3N4膜提高14%,β的线性度有明显改善;响应时间也缩短一倍。
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1996年第1期22-25,共4页 Semiconductor Technology
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