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一种新型氮化硅氢离子敏器件及其特性
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摘要
新型氮化硅氢离子敏器件采用PECVD法淀积SiNxHy膜同时作敏感膜与二次钝化保护膜。改善了器件的密封性能;敏感灵敏度β=56~60mV/pH,比用LPCVD法淀积的Si3N4膜提高14%,β的线性度有明显改善;响应时间也缩短一倍。
作者
钟雨乐
赵守安
刘涛
机构地区
暨南大学电子工程系
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1996年第1期22-25,共4页
Semiconductor Technology
关键词
PECVD
氮化硅
氢离子
敏感器件
能斯特响应
分类号
TN389 [电子电信—物理电子学]
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