期刊文献+

沈文忠课题组研制出具有高电子迁移率的纳米硅薄膜

下载PDF
导出
摘要 据1987年Phys.Rev.报道,纳米硅薄膜(nc-Si:H)是从上世纪80年代末兴起的一种新型人工功能纳米半导体材料.中国科学(A辑)记载,沈文忠课题组早在1992年已正式研制出来,指出它是一种具有高电导性、室温电导率高达10-1 Ω-1·cm-1,比本征单晶硅高出103倍.
作者 何宇亮 施毅
机构地区 南京大学物理系
出处 《微纳电子技术》 CAS 2005年第11期535-536,共2页 Micronanoelectronic Technology
  • 相关文献

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部