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沈文忠课题组研制出具有高电子迁移率的纳米硅薄膜
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摘要
据1987年Phys.Rev.报道,纳米硅薄膜(nc-Si:H)是从上世纪80年代末兴起的一种新型人工功能纳米半导体材料.中国科学(A辑)记载,沈文忠课题组早在1992年已正式研制出来,指出它是一种具有高电导性、室温电导率高达10-1 Ω-1·cm-1,比本征单晶硅高出103倍.
作者
何宇亮
施毅
机构地区
南京大学物理系
出处
《微纳电子技术》
CAS
2005年第11期535-536,共2页
Micronanoelectronic Technology
关键词
纳米硅薄膜
高电子迁移率
课题组
纳米半导体材料
室温电导率
中国科学
高电导性
REV
单晶硅
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
TN325.3 [电子电信—物理电子学]
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微纳电子技术
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