新型砷化镓液相外延石英舟
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2刘秀喜,孙瑛,陈刚,赵玉仁.硅片排列方式对扩散均匀性的影响[J].半导体技术,1992,8(5):30-34. 被引量：3
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3吴海.热壁LPCVD设备TEOS工艺炉管的使用与维护[J].半导体技术,2012,37(10):786-789. 被引量：2
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4杨杰.硅片上下料设备中精度公差对稳定性影响的分析[J].电子工业专用设备,2016,45(7):15-17. 被引量：1
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5贺永宁,张雯,崔吾元,崔万照,王东,朱长纯,侯洵.ZnO半导体纳米线/PVA复合结构的制备及其紫外发光特性[J].半导体技术,2008,33(S1):361-364. 被引量：1
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6宗福建,李立君,崔晓东,马洪磊,马瑾,张锡健,计峰,肖洪地.二氧化锡纳米线的生长机理研究[J].功能材料,2007,38(A07):2662-2665.
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