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替代CFC-113清洗工艺的发展动向
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摘要
主要介绍国内外替代CFC-113(氟里昂)清洗工艺的原因,美日对此工艺研究进展情况,国内替代CFC-113清洗工艺研究也在进行之中,替代CFC-113清洗工艺势在必行。
作者
赵本信
机构地区
北京计算机技术及应用研究所
出处
《航天工艺》
1996年第2期44-47,共4页
关键词
清洗
电子元件
环境保护
焊接工艺
分类号
TN705 [电子电信—电路与系统]
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