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广达研发设计中心

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摘要 广达研发中心坐落于林口华亚科技园区,基地面积约2 8ha,业主投下巨资计划兴建一座地下三层,地上七层,足以代表企业高科技形象,并可容纳5000位研究人员与设备的综合性研发及训练中心,以满足企业未来发展扩充之需求.另外,为延续广达计算机长久以来对人文艺术活动之支持与关怀,本案也将包括一座专门收藏有关科技发展史之科技博物馆,开放供一般大众参观.如何有效利用土地,满足复杂机能需求,增加空间使用弹性及多样化,同时创造优质办公环境,并营造出业主所期望之校园空间质感,成为本设计案之主要挑战.
出处 《建筑创作》 2005年第10期14-14,共1页 ArchiCreation
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参考文献1

  • 1缪协兴,陈智纯.软岩力学[M]中国矿业大学出版社,1995.

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