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SIPOS/Si异质结特性的研究

A Study on the Properties of SIPOS/Si Heterojunctions
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摘要 采用红外吸收光谱分析了SIPOS薄膜中Si-O键的结构,对比分析了热退火和快速灯光退火对SIPOS中Si-O键结构的影响,并结合SIPOS/Si结构的C-V、I-V测试结果,对该结构的异质结特性进行了分析。 SIPOS films are prepared and annealed both in heat and flashlight manners. Based on the infrared absorption spectrum of SIPOS films, properties of Si-O bonds in the films are analyzed. To study the properties of SIPOS/Si heterogeneous junctions, C-V and I-V measurement were made on the structures. By comparison, effects of annealing manners on properties of the SIPOS films and the SIPOS/Si heterojunctions are investigated.
出处 《微电子学》 CAS CSCD 1996年第2期116-118,共3页 Microelectronics
关键词 SIPOS膜 热退火 异质结构 半绝缘 多晶硅 Semiconductor material SIPOS film Thermal annealing Heterostructure
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