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PERKIN-ELMER 340光刻机的匹配研究 被引量:1

The Study on the Match of Micro Align Models 340
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摘要 叙述了340光刻机发生畸变的原因,并解释了什么是交叉畸变,什么是扫描畸变,并对如何进行两台340光刻机的匹配进行了探讨.最后给出了试验数据. This article introduces the reason why there's existing the distortions of the micro align models and explains what is cross distortion and scan distortion 340 and how to match the different “340”.
出处 《辽宁大学学报(自然科学版)》 CAS 2005年第4期348-349,共2页 Journal of Liaoning University:Natural Sciences Edition
基金 辽宁省科技厅自然科学基金(002021) 辽宁省教育厅自然科学基金(20021076)
关键词 扫描畸变 交叉畸变 匹配 scan distortion cross distortion match.
  • 相关文献

参考文献2

  • 1坎贝尔.微电子制造科学原理与工程技术[M].北京:电子工业出版社,..
  • 2普卢默.硅超大规模集成电路工艺技术,理论、实践与模型[M].北京:电子工业出版社,..

同被引文献3

  • 1陈宝钦,刘明,徐秋霞,薛丽君,李金儒,汤跃科,赵珉,刘珠明,王德强,任黎明,胡勇,龙世兵,陆晶,杨清华,张立辉,牛洁斌.光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术[J].Journal of Semiconductors,2006,27(z1):1-6. 被引量:4
  • 2Gary Flores, Warren Flack, John Cossins. THE IMPLE- MENTATION AND CHARACTERIZATION OF AD- VANCED MIX-AND-MATCH LITHOGRAPHY [ R ]. Ultratech Stepper, Inc.
  • 3Jan Pieter Kuijten, Thomas Harris, Ludo van der Heijden. Advanced Mix & Match Using a High NA i-Line Scanner [R]. Netherlands ASML, Inc.

引证文献1

二级引证文献2

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