摘要
本文介绍一种全新的铝、钛、铌、锆、钽等阀金属和半导体硅、镓、锗等表面处理技术,通过在电解质中等离子体弧光放电增强的电化学反应和热化学反应,在工件表面得到一特性优异的陶瓷膜层。其工艺较传统的阳极氧化工艺简单,处理时间短,膜层性能优异,花色品种多,镀液的污染极小,易于形成自动化生产。本文还介绍了等离子放电的一些理论问题。
A new process on plasma enhanced electrochemical surface of ceramic film was introduced in this paper,and some theory about plasma discharge was also presented.
出处
《材料工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第4期11-13,共3页
Journal of Materials Engineering