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等离子体增强的电化学表面陶瓷化工艺技术(PECC技术) 被引量:8

Process of Plasma Enhanced Electrochemical Surface of Ceramic Film
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摘要 本文介绍一种全新的铝、钛、铌、锆、钽等阀金属和半导体硅、镓、锗等表面处理技术,通过在电解质中等离子体弧光放电增强的电化学反应和热化学反应,在工件表面得到一特性优异的陶瓷膜层。其工艺较传统的阳极氧化工艺简单,处理时间短,膜层性能优异,花色品种多,镀液的污染极小,易于形成自动化生产。本文还介绍了等离子放电的一些理论问题。 A new process on plasma enhanced electrochemical surface of ceramic film was introduced in this paper,and some theory about plasma discharge was also presented.
作者 孔庆山
出处 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第4期11-13,共3页 Journal of Materials Engineering
关键词 等离子体 弧光放电 电击穿 陶瓷化膜 表面处理 s:plasma arc discharge puncture ceramic film
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