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准分子激光曝光系统研究
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摘要
本文基于准分子激光曝光系统的特点,对准分子激光束的整形,光束能量分布“均化”,曝光剂量控制,光学材料选取等关键问题,提出了解决的方法。并介绍了一种高均匀性KrF准分子激先曝光系统的研制结果。
作者
李毅杰
机构地区
电子工业部第
出处
《电子工业专用设备》
1996年第2期10-12,共3页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
准分子激光
光束整形
投影光刻
剂量
斑纹
分类号
TN248.22 [电子电信—物理电子学]
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电子工业专用设备
1996年 第2期
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