摘要
主要介绍几种离子化制备薄膜的方法，其目的是评述用于制备低损耗光学涂层的低能反应工艺和等离子体工艺的优劣。
The low energy reactive and plasma processes for the production of low loss optical coatings are reviewed by introducing several methods in preparing the films.
出处
《光电子技术》
CAS
1996年第2期143-150,共8页
Optoelectronic Technology
关键词
离子辅助淀积
离子速淀积
离子能量
光学涂层
ion-assisted deposition, ion beam sputtering, ion energy, ion current density
