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全球半导体技术水平的扫描

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摘要按2004年12月的ITRS，国际半导体工艺路线图，其主要内容为2004年是90nm．2007年为65nm及2009年为45nm、这仅表示全球工业界开始进入该挡次技术的时间，决非己达到可以开始批量生产阶段，现在国际上还没有确切的定义。如何才叫进入90nm时代，其主要标志是什么？

作者莫大康

出处《集成电路应用》 2005年第11期1-2,共2页 Application of IC

关键词半导体技术全球扫描半导体工艺生产阶段水路线图工业界国际

分类号 TN3 [电子电信—物理电子学] TN305 [电子电信—物理电子学]

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集成电路应用

2005年第11期

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