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IC晶片关键尺寸标定的新方法研究 被引量:4

Study on the New Method of CD Calibrating for IC Wafer
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摘要 提出了一种基于标准件法的二次标定法,实现了对微距尺寸的高速高精度测量。该方法经过实验测量数据的分析对比,表明比标准件法测量精度有明显提高,满足了IC晶片线宽测量的精度要求。 A method of twice measure based on the standard component is presented, highaccuracy measurement for micro size is obtained. Through analysis and contrast of the experimental results, this method was obviously improved the precision compared with the law of standard component, and met the wide precision demands that measures of chip line of IC.
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第12期35-37,43,共4页 Semiconductor Technology
基金 广东省科技计划攻关项目(2004A10403008)
关键词 标准件 像素当量 空间矩 亚像素 尺寸标定 standard ruler per-pixel spatial moment sub-pixel size calibration
  • 相关文献

参考文献5

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二级参考文献3

共引文献98

同被引文献46

引证文献4

二级引证文献8

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