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第二届北京国际双年展——印象派版画作品展
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摘要
1874年4月,一些艺术家们聚集在一起,在巴黎的那达尔摄影工作室举办了一个画展。在这次展览中,毕沙罗、德加、塞尚、西斯莱、莫奈、莫里索、雷诺阿等人的作品使公众为惊谔。
作者
温琴佐.桑福
出处
《美术》
北大核心
2005年第11期28-33,共6页
Art Magazine
关键词
印象派
国际
板画
艺术家
工作室
雷诺阿
第二届北京国际双年展
分类号
J05 [艺术—艺术理论]
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美术
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