摘要
Si-Ge(SixGe1-x或Ge1-xSix)合金是一种金刚石结构的可完全互溶的固溶体材料。利用能带工程和晶格常数工程,它在微电子和光电子器件应用方面一直受到广泛关注,作为这些应用,Si-Ge合金一般是在Si衬底上外延生长其薄膜材料。Si-Ge晶体材料可用于光探测器、热(电)器件、X射线和中子单色仪、太阳电池,也可代替Si作为生长SiGe薄膜的晶格匹配衬底。已有若干研究组采用不同工艺生长出SiGe合金单晶。本作者试图用直拉(CZ)法在整个组分范围(0〈x〈1)内生长大尺寸SiGe单晶,且已成功生长出组分范围(0〈x〈0.15,0.85〈x〈1)的大尺寸SiGe单晶,也生长出用于热电器件的重掺杂SiGe单晶。
出处
《现代材料动态》
2005年第11期1-2,共2页
Information of Advanced Materials