等离子刻蚀

Plasma Etching

等离子刻蚀可以采用几种不同的方式：以物理溅射方式进行的腐蚀，包括：溅射腐蚀和离子磨削；以及不同程度依赖化学反应（形成挥发或准挥发化合物）和物理效应的腐蚀，包括等离子腐蚀、反应离子刻蚀和反应离子束腐蚀等。