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硅的各向异性腐蚀

The Silicon Anisotropic Etching

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摘要硅的各向异性腐蚀，是指对硅的不同晶面具有不同腐蚀速率的一种硅加工工艺。这种腐蚀速率的各向异性是由硅的晶体学特性决定的。其腐蚀示意图如下：

作者王岩徐宇新（审核）

出处《导航与控制》 2005年第4期19-20,共2页 Navigation and Control

关键词硅各向异性腐蚀晶面腐蚀速率

分类号 TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学] TN304.12 [电子电信—物理电子学]

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导航与控制

2005年第4期

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