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高精度硅电容压力传感器的研究 被引量:1

A Micromachined Si Capacitive Pressure Sensor
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摘要 本文介绍了一种采用微机械技术形成的电容压力传感器。在设计上采用完全对称的三层结构,从而较好地消除了由温度特性不匹配造成的漂移。利用Diode-quad接口电路的输出增益反馈方式基本消除了器件固有的非线性,使传感器的精度大大提高。 Described in this paper is a micromachined siliconcapacitive pressure sensor. The temperature drift of the sensor due to thermal mismatch is e-liminated by adopting a symmetric 3-layer structure, and the inherent nonlin-earity is reduced by output-gain-feedback. Therefore, the measuring accuracy is much improved.
出处 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 1996年第10期7-10,共4页 Instrument Technique and Sensor
基金 八五攻关项目 国家自然科学基金
关键词 电容 压力传感器 传感器 硅电容 Micromachining, Capacitive, Pressure Sensor.
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引证文献1

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