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一种高速生长硅基薄膜的低成本技术
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摘要
本发明涉及生长硅基薄膜,尤其是在低温衬底上高速生长优质硅基薄膜的低成本技术,属于薄膜光伏电池与薄膜晶体管等光电子器件技术领域。本发明克服了常规生长硅基薄膜方法中或生长速率慢、或衬底温度高、或离子轰击严重等缺陷,整合了其优点。方案是,硅烷等反应气体先经过热丝加热,再输运到施加超高频功率信号电极之间,只需施加较小功率的甚高频信号,使硅烷易充分分解,通过化学气相反应沉积成膜,降低了离子轰击,改善薄膜质量。
机构地区
南开大学
出处
《太阳能》
2005年第6期60-61,共2页
Solar Energy
关键词
硅基薄膜
生长速率
器件技术
成本
高速
化学气相反应
衬底温度
离子轰击
薄膜晶体管
光伏电池
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
O484.1 [理学—固体物理]
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太阳能
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