注入在表面含氧的硼膜中氘的行为研究

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摘要硼是非常有潜力的聚变堆第一壁涂层材料。对氢同位素在硼膜中的滞留和释放性能已经作了大量研究。本文用X射线电子能谱（XPS）和热解释谱（TDS）方法研究了注入在表面含氧的硼膜中氘的行为。

作者王明旭 H．Miyauchi T．Nakahata Y．Nishikawa Y．Oya N．Noda K．Okuno

机构地区不详日本静冈大学、理学部放射化学研究室日本东京大学放射同位素中心日本核融合研究所、聚变工程研究中心

出处《核工业西南物理研究院年报》 2004年第1期38-39,共2页 Southwestern Institute of Physics Annual Report

关键词硼膜涂层聚变堆涂层材料 X射线电子能谱热解释谱

分类号 O484 [理学—固体物理] O53 [理学—等离子体物理]

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