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日一研究组开发生产精细针状硅的简便方法

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摘要日本高知技术大学（Kochi）科研小组开发了一种低成本生产精细针状硅的简便方法，即溅射和离子蚀刻（sputtering ＆ ion etching）生产工艺。

作者徐维正

出处《精细与专用化学品》 CAS 2006年第1期37-37,共1页 Fine and Specialty Chemicals

关键词简便方法开发生产针状精细硅低成本生产离子蚀刻生产工艺 ION

分类号 TQ613.1 [化学工程—精细化工] TN304.12 [电子电信—物理电子学]

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精细与专用化学品

2006年第1期

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