期刊文献⁺

任意字段

题名或关键词

题名

关键词

文摘

作者

第一作者

机构

刊名

分类号

参考文献

作者简介

基金资助

栏目信息

日一研究组开发生产精细针状硅的简便方法

原文传递

导出

摘要日本高知技术大学（Kochi）科研小组开发了一种低成本生产精细针状硅的简便方法，即溅射和离子蚀刻（sputtering ＆ ion etching）生产工艺。

作者徐维正

出处《精细与专用化学品》 CAS 2006年第1期37-37,共1页 Fine and Specialty Chemicals

关键词简便方法开发生产针状精细硅低成本生产离子蚀刻生产工艺 ION

分类号 TQ613.1 [化学工程—精细化工] TN304.12 [电子电信—物理电子学]

引文网络
相关文献

1黄琪.氯—氢混合物中InP的RIBE[J].等离子体应用技术快报,1996(3):6-7.
2笑生.InP通路孔的RIE[J].等离子体应用技术快报,1995(4):6-7.
3文允监.在磁控微波等离子体中蚀刻微细接触孔[J].等离子体应用技术快报,1995(10):3-4.
4普丁.蚀刻化学对SF6基中钨蚀刻的影响[J].等离子体应用技术快报,1996(3):18-19.
5笑生.用Cl2对InAlAs／InP进行RBIBE[J].等离子体应用技术快报,1996(3):4-5.
6袁晓源.等离子体处理的方法[J].等离子体应用技术快报,1995(5):3-4.
7宏声.蚀刻技术的发展现状[J].等离子体应用技术快报,1995(6):1-3.
8梁继勇.一种检验磷化膜外观质量的简便方法[J].现代涂料与涂装,2007,10(8):43-44.
9博通新一代IP电话设计平台发布[J].军民两用技术与产品,2009(4):24-24.
10日本厂商研发出低成本大尺寸OLED面板[J].实用影音技术,2011(12):6-6.

精细与专用化学品

2006年第1期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...

;

使用帮助返回顶部