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光热偏转光谱技术检测光学薄膜的吸收率及其定标 被引量:1

A Measurement and Calibration of Absorbance in Optical Thin Film by Photothermal Deflection Spectroscopy
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摘要 本文简要叙述了光热偏转光谱技术检测薄膜吸收率的基本原理和定标方法,测量了一系列光学薄膜样品的微弱吸收率。以35mW的氦-氖激光器作为泵浦光源,0.5mW的氦—氖激光器作为测光,以碳黑膜作为标准样品定标得到1×10^(-6)的灵敏度。 The fundamental and calibrated method for mesuring absorbance in optical thin film have been studied and weak absorbance in optical thin films have b-een measured in this paper.The sensitivity of 10-6 magnitude has been demonstrated by the experiments with 35 mW He-Ne laser as a pump beam, 1 mW He-Ne laser as a probe beam and a carbon black thin film as a calibrator.
机构地区 浙江大学光仪系
出处 《浙江大学学报(自然科学版)》 CSCD 1989年第4期532-538,共7页
基金 国家自然科学基金
关键词 光学蒲膜 光热偏转光谱 吸收率 Photothermal deflection spectroscopy, Optical thin film, Absorb-ance measurement, Calibration.
  • 相关文献

参考文献2

  • 1何捷,1988年
  • 2胡凯,1986年

引证文献1

二级引证文献1

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