Editorial 被引量：1

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摘要 With the appearance of this Editorial, we stand on the threshold of yet New Year, looking forward with glorious expectations. We take this opportunity to wish our readers, authors, reviewers, the members of the journal editorial board,

作者 En-Xu BA

机构地区 The chief editor Professor of Laser Physics

出处《Optoelectronics Letters》 EI 2006年第1期I0002-I0002,共1页 光电子快报（英文版）

关键词 EDITORIAL

分类号 TN [电子电信]

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相关文献

同被引文献5

1袁景梅,齐红基,赵元安,范正修,邵建达.Influence of purity of HfO_2 on reflectance of ultraviolet multilayer[J].Chinese Optics Letters,2008,6(3):222-224. 被引量：1
2张丽莎,许鸿.氧分压对HfO2薄膜残余应力的影响及有限元分析[J].强激光与粒子束,2008,20(6):894-898. 被引量：5
3郝殿中,吴福全,王召兵,宋连科,刘涛,李国华.沃拉斯顿棱镜可见光区减反射膜研制[J].光电子．激光,2008,19(8):1143-1144. 被引量：6
4郝殿中,王庆,宋连科.氧分压对电子束蒸发TiO_2薄膜残余应力的影响[J].光电子．激光,2009,20(5):642-644. 被引量：6
5洪松,杨保和,李明吉,吴晓国.喷射CVD法制备金刚石厚膜及其内应力分析[J].光电子．激光,2010,21(4):555-558. 被引量：4

引证文献1

1齐瑞云,吴福全,郝殿中,王庆,韩培高.沉积温度对HfO_2薄膜应力及光学特性的影响[J].光电子．激光,2011,22(6):884-887. 被引量：1

二级引证文献1

1常艳贺,惠冰,张静,冯时,赵群.热蒸发HfO_2薄膜光学常数表征[J].长春理工大学学报（自然科学版）,2017,40(3):18-21.

1Editorial[J].Optoelectronics Letters,2007,3(1).
2En-xu BA The chief editor Professor, Laser physics.Editorial[J].Optoelectronics Letters,2008,4(1).
3Editorial Committee[J].The Journal of China Universities of Posts and Telecommunications,2005,12(4).
4En-xu BA The chief editor Professor of Laser Physics.Editorial[J].Optoelectronics Letters,2011,7(1).
5Editorial Committee[J].The Journal of China Universities of Posts and Telecommunications,2005,12(2).
6EDITORIAL COMMITTEE[J].Science in China(Series F),2007,50(2).
7Editorial Committee[J].The Journal of China Universities of Posts and Telecommunications,2005,12(3).
8Chinese Journal of Electronics Editorial Committee （2006-2010）[J].Chinese Journal of Electronics,2006,15(3).
9En-xu BA The chief editor Professor of Laser Physics.Editorial[J].Optoelectronics Letters,2012,8(1).
10Chinese Journal of Electronics Editorial Committee （2006～2010）[J].Chinese Journal of Electronics,2007,16(1).

Optoelectronics Letters

2006年第1期

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