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国际激光材料和激光光谱学专题会议
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摘要
由中国光学学会、美国光学学会、美国激光和电子光学协会联合主办的国际“激光材料和激光光谱学”专题学术交流会,拟于1988年7月25—27日在我国上海市召开。该会议是继在日本东京召开的“第16届国际量子电子学会议”之后,在我国进行的专题卫星会议。会议讨论的内容为。
机构地区
中科院上海光机所沃新能
出处
《激光杂志》
CAS
1987年第3期F0003-F0003,共1页
Laser Journal
关键词
激光光谱学
专题会议
激光材料
国际
中国光学学会
学术交流会
量子电子学
电子光学
第16届
日本东京
分类号
O433.54 [机械工程—光学工程]
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激光杂志
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