离心旋转喷雾式清洗技术
Centrifugal Spray Cleaning Technology
摘要
应用．前段光刻胶去除和灰化后清洗．自对准多晶硅化物去除．后段灰化后清洗．凸块制程中．
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第3期I0001-I0004,共4页
Semiconductor Technology
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