业界动态

台积电45nm工艺跑前头漫润式曝光显影技术新突破即将迈入建产阶段，日立化成东莞感旋旋光性干膜新厂投产，NEC采用漫入式光刻开发出55nm工艺预计2007年建产，英特尔发布首款45nm工艺芯片晶体管度翻倍。