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CVD法氮化硅及氮化钛涂层试验研究
被引量:
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摘要
出用CVD法在三种基材上蒸镀氮化硅及氮化钛,同时在镀层交界处镀过渡金属。经试验表明,以氮化硅为主蒸镀材,炉内温度控制在1250℃,并选定H2气导入量为2700cm3/min,可获得较理想的镀层。此复合膜具有高耐磨、耐蚀及良好的隔热性能,大大提高了涂层与基材的结合强度。
作者
张智华
胡海泉
潘子南
机构地区
昌河飞机工业公司
出处
《汽车工艺与材料》
1996年第2期9-11,共3页
Automobile Technology & Material
关键词
CVD法
陶瓷
氮化硅涂层
氮化钛涂层
分类号
TQ174.6 [化学工程—陶瓷工业]
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