碱性蚀刻技术

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摘要化学基本原理碱性蚀刻的基本机理就是碱性氯化铜化学反应（见图1）是二价铜离子氧化金属铜生成亚铜离子。这种平衡同样在酸性氯化铜中的二价铜氧化浸蚀铜金属。所以，在碱性环境条件下，发生亚铜离子和二价铜离子的氨的络合物。更进一步利用通入空气使酸性氯化铜蚀刻液中亚铜离子氧化成二价铜离子。如下反应：

出处《电子电路与贴装》 2006年第1期22-25,共4页 Electronics Circuit & SMT

关键词碱性环境蚀刻技术二价铜离子亚铜离子化学反应氯化铜基本机理金属铜氧化铜金属

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电子电路与贴装

2006年第1期

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