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硅双极晶体管的h_(FE)温度相关性分析及其应用
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摘要
本文对硅双极晶体管的h_(FE)温度相关性进行了全面的分析,指出它主要受发射区重掺杂效应支配,也与载流子不同温度下的析出率及载流子迁移率和E_g随温度变化而变化有关。导出了h_(FE)相对变化率的表达式,并由此设计制造了一种低温度变化率的晶体管。
作者
翟冬青
李彦波
张振岭
机构地区
河北大学电子系
石家庄无线电二厂
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1990年第2期49-52,共4页
Semiconductor Technology
关键词
硅
双极
晶体管
温度
相关性
HFE
分类号
TN322.8 [电子电信—物理电子学]
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