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半导体工艺用合成洗涤剂和EDTA
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摘要
本文介绍一种半导体清洗工艺用新型合成洗涤剂及其去除有机物和金属杂质的原理。这种洗涤剂主要由非离子表面活性剂和金属离子螯合剂组成,具有操作方便、成本低廉、无毒和无公害等优点,在电子工业中的应用具有广阔前景。
作者
陈子俊
机构地区
山东潍坊精细化工厂
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1990年第3期22-24,共3页
Semiconductor Technology
关键词
半导体器件
工艺
洗涤剂
EDTA
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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半导体技术
1990年 第3期
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