纳米级芯片技术是我国赶超国际先进水平的关键

下载PDF

导出

摘要当前，集成电路的发展仍遵循“摩尔定律”，即其集成度和产品性能每18个月增加一倍，按照器件特征尺寸缩小、硅片尺寸增加、芯片集成度提高和设计技术优化的途径继续发展。近年来我国一些先进集成电路制造公司的崛起，使国内集成电路制造工艺技术与国际先进水平的差距有了显著的缩小，但整体水平仍与先进国家相差2～3代。目前，我国集成电路设计公司年设计能力已超过500种，主流设计水平达到180nm，130nm技术正在开发中，

出处《纳米科技》 2006年第1期25-25,共1页

关键词国际先进水平芯片技术集成电路制造纳米级芯片集成度制造工艺技术尺寸缩小设计能力设计公司摩尔定律

分类号 F426.63 [经济管理—产业经济] TQ224.224 [化学工程—有机化工]

引文网络
相关文献

1闫秀梅.提高制造工艺技术增强企业竞争能力[J].山西水利,2001,17(5):43-43.
2潘文.新一代信息技术产业发展趋势[J].领导科学论坛,2016(16):19-35. 被引量：1
3半导体产业增速加快芯片制造工艺技术不断推进[J].中国集成电路,2016,0(10):11-11.
4宋俊德.电子信息产业成为拉动经济增长的新引擎[J].世界电信,2009(5):15-16. 被引量：2
5莫大康.450毫米设备为什么不受青睐[J].半导体行业,2006(1):41-43.
6沈光汉.电瓷制造工艺技术十年进展[J].电瓷避雷器,1991(2):12-17.
7丁学彬,谷彦军,刘忠柏.未来军工产品制造工艺的发展方向[J].国防技术基础,2006(4):38-40. 被引量：2
8吴基传.面向21世纪的信息技术与信息产业[J].信息化建设,1999,0(11):4-8.
9邱晓明.提高机械制造工艺技术的相关措施推荐[J].科技风,2017(5):166-166.
10李玉忠,罗海鸥.“制造强国”战略与数控创新人才培养模式研究[J].职业时空,2008,4(2):75-76.

纳米科技

2006年第1期

浏览历史

内容加载中请稍等...

纳米级芯片技术是我国赶超国际先进水平的关键

相关作者

相关机构

相关主题

浏览历史