期刊文献+

多晶硅应变膜压力传感器 被引量:4

Polysilicon-Diaphragm pressure Sensors
下载PDF
导出
摘要 本文研究了多晶硅应变膜压力传感器制作技术,提出了防止多晶硅应变膜变形的工艺条件,研制出了多晶硅应变膜压力传感器。这一技术简单、与IC工艺较为兼容,适合研制集成压力传感器。 The fabrication techniques for polysilicon-diaphragm pressure sensors were studied.The process conditions for making undeformed polysilicon-diaphragm were suggested, and polysilicon -diaphragm pressure sensors were made. The technology is simple, and has better process compatibility with current IC technology. Therefore, it sutits to the fabrication of integrated pressure sensors.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第9期694-697,共4页 半导体学报(英文版)
基金 国家自然科学基金
关键词 压力传感器 多晶硅 应变膜 Pressure sensor Polysilicon Annealing
  • 相关文献

参考文献1

  • 1王跃林,固体电子学研究与进展,1988年,8卷,328页

同被引文献3

引证文献4

二级引证文献7

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部