同被引文献7
1 Yamaguchi M Arai K I.Current Status And Future Prospects Of RFIntegratedInductors[J].日本应用磁学会志,2001,25(2).
2 AraiKI.Applied Magenetics 3[J].日本应用磁学会志,2000,24(8).
3 Kawabe K, Koyam H, Shirae K. Planar Inductor[J]. IEEE Transactions on Magnetics, 1984,20(5): 1804-1806.
4 Yamaguchi M, Matsumoto M, Ohzeki H ,et al. Fabrication and basic characteristics of dry micro inductors[J]. IEEE Transactions on Magnetics, 1990,26 (5): 2014-2016.
5 范平.超薄金属膜的电导特性[J] .金属学报,1999,35(3):261-264. 被引量：8
6 刘畅,陈学良,严金龙.一种提高硅集成电感Q值的方法[J] .功能材料与器件学报,2002,8(1):1-4. 被引量：3
7 邵新勋.栅极型薄膜电感的制备[J] .苏州科技学院学报（自然科学版）,2003,20(1):37-42. 被引量：1
1 谭辉,陶明德,宋世庚.CoMnNiO非晶薄膜热致相变[J] .功能材料,1994,25(4):350-353. 被引量：2
2 范平,邵建达,易葵,齐红基,范正修.纳米Mo膜的光学特性及最小连续膜厚研究[J] .中国激光,2005,32(7):977-981. 被引量：5
3 许丽萍.内建电场对应变多量子阱带阶的影响[J] .微纳电子技术,2003,40(7):19-21. 被引量：1
4 谭辉,陶明德,涂楚辙.金属离子在氧化物非晶薄膜中的行为[J] .新疆大学学报（自然科学版）,1994,11(4):66-69.
5 范平,易葵,邵建达,齐红基,范正修.Co和Cu薄膜电学特性和连续性特征的判据[J] .中国有色金属学报,2006,16(4):651-656. 被引量：3
6 范平,邵建达,易葵,齐红基,范正修.Cu膜的光学特性尺寸效应及最小连续膜厚研究[J] .光子学报,2006,35(10):1542-1546. 被引量：4
7 庄建文,常爱民,程家骐,庄顺昌,贾真,柳培立.前驱体反应物浓度对NTC纳米粉体及其热敏电阻特性的影响[J] .功能材料,2004,35(z1):1012-1014.
