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MOCVD—InP外延层的特性研究

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作者 蒋红 舒占永
出处 《薄膜科学与技术》 1990年第4期19-26,共8页
关键词 外延层 INP 化学气相淀积 MOCVD
分类号 TN304.054 [电子电信—物理电子学]
  • 相关文献
薄膜科学与技术
1990年 第4期

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