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高分辨二次电子像中的成份衬度 被引量:2

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摘要 高分辨二次电子像中的成份衬度徐军陈文雄张会珍(北京大学电镜实验室,北京100871)在传统的扫描电子显微学的概念中,二次电子像中包含的是形貌衬度,而背散射电子像中包含的是成份衬度。但实际上二次电子的产额是和样品的成份有关的,不过样品表面极易玷污,样品...
出处 《电子显微学报》 CAS CSCD 1996年第6期535-535,共1页 Journal of Chinese Electron Microscopy Society
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献2

  • 1戈尔茨坦 J I,扫描电子显微技术与X射线显微分析,1988年
  • 2麻--立男,1981年

共引文献2

同被引文献17

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引证文献2

二级引证文献10

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