等离子增强型化学气相淀积氮化硅的刻蚀

本文研究了目前在生产线在上使用的ＤＫ－Ｐ２００型等离子干法刻蚀设备各项刻蚀参数对刻蚀效果的影响。报告了典型刻蚀工艺条件，对刻蚀速率随折射率而变化给出了新的解释。