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超LSI时代的清洗技术

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摘要介绍亚微米工艺中清洗技术的重要性，清洗技术的现状、问题及其发展趋势以及清洗设备、片子表面洁净度测量装置的一般走势。

作者登科

机构地区中国航空工业总公司西安微电子技术研究所

出处《电子工业专用设备》 1996年第3期1-7,共7页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词超LSI时代清洗技术 VLSI

分类号 TN470.5 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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电子工业专用设备

1996年第3期

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