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低温化学镀镍磷合金工艺的研究 被引量:4

A Study on the Technology of Electroless NickelPlating at Low Temperature
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摘要 提出了一种低温化学镀镍工艺,可在70℃下进行(常规工艺操作温度为85~95℃),槽液稳定,沉积达率不小于10μm/h,使用寿命达5个周期以上,并得到磷的质量分数为0.02~0.05的Ni-P合金镀层。H2PO2-和Ni2+影响沉积速率的反应级数分别为0.3和0.34,H2PO2-的平均利用效率为0.76。 The electroless nickel process of low temperature (LTEN ) has been studied. It can be plat ed at 70℃(the operating temperature of convertional process is 85-95℃). The bath is stable.Thedeposition rate is more than 10 μm/h. The service life is more than five turns.The Ni-P alloy coatingscontaining quality fraction of 0.02-0.05 phosphorus have been obtained.The reaction order forH2PO2 was.0.3 and that for Ni2+ was 0. 34.The average utilization efficiency of H2PO2 in the bath is0.76.
出处 《西北大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1996年第4期307-310,共4页 Journal of Northwest University(Natural Science Edition)
关键词 化学镀 镍磷合金 镀层 低温 镀镍工艺 electroless plating Ni-P alloy coating
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献8

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  • 6方景礼,1990年
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共引文献6

同被引文献23

引证文献4

二级引证文献11

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