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有机铟源的应用开发研究
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摘要
讨论了三甲基铟在光电新材料中的应用,同时介绍了三甲基铟在应用于MOCVD工艺中质量输入过程中变化的原因及克服这些问题的方法。本文还介绍了新的有机铟源的制备及应用情况。
作者
崔丽钧
周春月
安华
机构地区
化工部光明化工研究所
出处
《化工新型材料》
CAS
CSCD
北大核心
1996年第2期18-20,共3页
New Chemical Materials
基金
国家"863"计划资助
关键词
三甲基铟
有机铟源
半导体薄膜
分类号
TN304.505 [电子电信—物理电子学]
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化工新型材料
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