OPC工具挺进DFM

Sigma-C和Mentor Graphics公司共同为IC设计团体带来了曙光。设计者们一直希望他们的设计进入制版工艺前，能在IC布局中发现并修正光刻中的过热点。为此Sigma-C公司已经推出了专为设计和OPC（optical-proxim时correction，光学邻近校正）应用的Solid＋微光刻模拟器。