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碳化钨基真空触头材料除气工艺研究
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1
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摘要
本文对铜含量20Wt%的Cu—WC基真空接触器用触头材料残存气体的来源,存在状态进行了分析和推测,提出并实施了相应的除气工艺。研究成功一种气体含量低的Cu—WC触头材料(CW—2型)。6kV等级的真空灭弧室改用CW—2型触头后。
作者
翁桅
陆尧
机构地区
上海电器科学研究所
出处
《华通技术》
1996年第2期15-18,共4页
关键词
真空触头
碳化钨
除气工艺
电器
分类号
TM241.05 [一般工业技术—材料科学与工程]
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