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碳化钨基真空触头材料除气工艺研究 被引量:1

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摘要 本文对铜含量20Wt%的Cu—WC基真空接触器用触头材料残存气体的来源,存在状态进行了分析和推测,提出并实施了相应的除气工艺。研究成功一种气体含量低的Cu—WC触头材料(CW—2型)。6kV等级的真空灭弧室改用CW—2型触头后。
作者 翁桅 陆尧
出处 《华通技术》 1996年第2期15-18,共4页
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