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PVD设备
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摘要
Sigma fxP是一种单片式设备组,设计应用于批量PVD工艺。溅射淀积系统的工艺腔是在标准设计的基础上,通过简单地技术升级和晶圆尺寸转化而来的。主要的应用于后道和微/纳米技术。
出处
《集成电路应用》
2006年第5期45-45,共1页
Application of IC
关键词
设备
PVD
VD工艺
设计应用
SIGMA
标准设计
晶圆尺寸
技术升级
纳米技术
单片式
分类号
TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学]
TG71 [金属学及工艺—刀具与模具]
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集成电路应用
2006年 第5期
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