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光刻技术曝光光源及相关问题试验分析

Experimental Analyses to the Problems About Photoetch Technology and Exposure Source
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摘要 In this paper, we analpe and discuss the characteristic Ptopnies and using petormanoo ofseverai types of ultraviolet source, transdslon materials and optical mask which are used in the pho-toetch technology of coding compoent. In this paper, we analpe and discuss the characteristic Ptopnies and using petormanoo ofseverai types of ultraviolet source, transdslon materials and optical mask which are used in the pho-toetch technology of coding compoent.
作者 董连和
出处 《长春光学精密机械学院学报》 1996年第2期52-57,共6页 Journal of Changchun Institute of Optics and Fine Mechanics
关键词 紫外线 辐射 光谱 光刻 光源 Ultraviolet radiation Spectrum
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参考文献1

  • 1江荣熙.JK—1型接近式光刻机曝光系统照度均匀性的测定[J]光学工程,1981(05).

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