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使用条件对合成抛光革粘弹性行为的影响

Effect of Application Conditions on ViscoElastic Behavior of Polymer Polisher
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摘要 粘弹性行为是决定合成抛光革抛光性能的重要因素。在抛光中,抛光革由于温度、抛光度、使用状态等因素将使其粘弹性行为发生变化。 Viscoelastic behavior of polymer polisher is a key to polishing precision and quality, it changes with the time, temperture and polishing compound property during polishing process. The effect of the above mentioned change on polishing precision and quality has been studied in this paper.
机构地区 西北工业大学
出处 《机械科学与技术》 CSCD 北大核心 1996年第4期611-613,共3页 Mechanical Science and Technology for Aerospace Engineering
基金 航空科学基金资助项目
关键词 抛光革 粘弹性 抛光质量 Polishing Polymerpolisher Viscoelasticity Polishing quality
  • 相关文献

参考文献2

  • 1苏致兴.光学高速抛光材料与高分子结构、性能之间的关系[J]仪器制造,1979(06).
  • 2[瑞典]拉贝克(Rabek,J·F·) 著,吴世康,漆宗能等.高分子科学实验方法[M]科学出版社,1987.

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