新型超大规模集成电路清洗技术

目前我国3微米以下的超大规模集成电路生产线使用的传统清洗技术中的清洗剂，均为进口的MOS纯的酸、碱和有机溶剂。我国超大规模集成电路每年进口超净超纯化学试剂8000吨，亚微米超净超纯化学试剂2000吨。本清洗剂DGQ-1和DGQ-2对新型超大规模集成电路清洗技术完全可以代替它们。