美开发成功新一代高级抗蚀剂

美国罗姆-哈斯电子材料公司最近开发成功一种高级抗蚀剂，它在新一代半导体制造过程中用于浸渍平版印刷术中。 新抗蚀剂不需配置一个保护膜，但需配装一套双层防反射膜以能完全地预防反射。从新抗蚀剂内浸滤酸类和其他化学品，可影响产品的性能，所以必须保持在检测极限以下。公司早些时候开发出一种带有保护膜的抗蚀剂。