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掺碲InSb单晶的垂直温度梯度凝固生长法研究 被引量:2

Vertical Gradient Freeze Growth of Te-Doped InSb Single Crystal
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摘要 本工作成功地建立一套垂直温度梯度凝固晶体生长设备,并在无氢气的气氛下生长了掺碲InSb体单晶。通过霍尔效应、原子吸收谱和腐蚀等方法对掺碲InSb晶体中的缺陷在宏观、微尺度上的分布进行分析。研究结果表明,在宏观尺度上碲杂质沿生长方向的分布与准静态生长的溶质分布接近,在微尺度上缺陷分布均匀,无观察到生长条纹。 A vertical gradient freeze growth apparatus successfully were set up and Te-doped InSb single crystals were grown under an atmosphere without hydrogen. By Hall effect, atomic absorption spectrochemical analysis, and etch, macro-and micro-scale distributions of defects were analyzed. It was shown that the macro-scale distribution of Te impurity in the growth direction of the as-grown crystal is close to that of quasi-equilibrium growth crystal, and the micro-scale distributions of defects were homogeneous with no growth striations in the as-grown crystals.
机构地区 厦门大学物理系
出处 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 1996年第2期113-117,共5页 Journal of Synthetic Crystals
基金 国家自然科学基金 福建省自然科学基金
关键词 晶体生长 掺碲 半导体 单晶 锑化铟 凝固生长 crystal growth vertical gradient freeze method Te-doped InSb Ⅲ -Ⅴ semicondu tor growth apparatus growth striations Te impurity
  • 相关文献

参考文献4

  • 1闵乃本,晶体生长的物理基础,1982年
  • 2俞振中,物理学报,1980年,29卷,11页
  • 3俞振中,物理学报,1980年,29卷,19页
  • 4大山昌伸,应用物理,1974年,43卷,854页

同被引文献14

引证文献2

二级引证文献8

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