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物理气相沉积的原理和应用
被引量:
8
The principles and Applications of Physical Vapour Deposition
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摘要
扼要地介绍了物理气相沉积(PVD)的基本原理、特性、应用效果及发展趋势。
In this paper,the principles,characteristics,application results and trends of development of physical vapour deposition are briefly described.
作者
阎洪
机构地区
昆明冶金研究院
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
1996年第3期26-29,共4页
Materials Reports
关键词
物理气相沉积
特性
PVD
金属表面处理
physical vapour deposition,characteristics,application
分类号
TG174.44 [金属学及工艺—金属表面处理]
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