物理气相沉积的原理和应用被引量：8

The principles and Applications of Physical Vapour Deposition

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摘要扼要地介绍了物理气相沉积(PVD)的基本原理、特性、应用效果及发展趋势。 In this paper,the principles,characteristics,application results and trends of development of physical vapour deposition are briefly described.

作者阎洪

机构地区昆明冶金研究院

出处《材料导报》 EI CAS CSCD 1996年第3期26-29,共4页 Materials Reports

关键词物理气相沉积特性 PVD 金属表面处理 physical vapour deposition,characteristics,application

分类号 TG174.44 [金属学及工艺—金属表面处理]

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