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磁增强反应离子刻蚀系统中的发射光谱诊断技术
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摘要
利用发射光谱诊断技术研究了磁增强反应离子刻蚀系统中CF4+O2的辐射谱、谱线成分及强度,分析了谱线强度与射频辐射功率、氧气含量的关系,并与没有磁场存在时的情况作了比较。
作者
赖国燕
范平
机构地区
深圳市新开达电子公司
深圳大学应用物理系
出处
《真空科学与技术》
EI
CAS
CSCD
1996年第5期372-375,共4页
Vacuum Science and Technology
关键词
磁增强
离子刻蚀
发射光谱诊断
半导体器件
分类号
TN405.982 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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真空科学与技术
1996年 第5期
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