脉冲测量技术越过高K材料电荷捕获的壁垒

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摘要由于高介电常数的栅电路结构在俘获电荷机制上存在负面影响,常规的直流量测技术已经捉襟见肘了。脉冲电流-电压量测技术能够彻底解决这一难题,从而得到高介电常数栅电路结构晶体管的本征电学表现。

作者 Y.Zhao C.D.Young R.Choi B.H.Lee

机构地区 Keithley Instruments Inc. Sematech

出处《集成电路应用》 2006年第6期24-27,共4页 Application of IC

关键词高K材料测量技术电荷脉冲高介电常数电路结构量测技术电流-电压晶体管本征

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集成电路应用

2006年第6期

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